什么是蝕刻？蝕刻過程涉及哪些工序？

什么是蝕刻？通常指光化學(xué)蝕刻。這意味著在通過制版曝光和顯影之后，要蝕刻的區(qū)域中的保護膜被去除。蝕刻時，使金屬與化學(xué)溶液接觸，利用兩個正圖案，從兩面進行化學(xué)研磨，達到溶解腐蝕的效果，形成凹凸或鏤空成型?；瘜W(xué)蝕刻很有針對性，特指可控腐蝕，是通過化學(xué)方法對金屬進行可控加工的方法。蝕刻包括干蝕刻和濕蝕刻。干法刻蝕可分為反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、濺射刻蝕和氣相刻蝕。

對比蝕刻和沖壓工藝的特點，蝕刻的優(yōu)勢在于制樣成本低，蝕刻范圍內(nèi)幾乎所有金屬，對金屬硬度沒有限制，無劃痕，無毛刺，設(shè)計快速，簡單，效率高，制造過程48小時，材料厚度對公差影響10%，產(chǎn)品封裝和轉(zhuǎn)移方便。沖壓制造成本高，雖然所有金屬都可以進行，但是硬度過大或過小，容易破碎的金屬無法使用，切割邊緣有劃痕，局部有毛刺，如果在設(shè)計過程中改變工藝非常耗時，成本高，工藝至少需要幾周，產(chǎn)品的包裝和轉(zhuǎn)移困難。

涉及十個蝕刻過程:

1.工程制圖。卓利達蝕刻工藝主要為圖紙定制，可蝕刻厚度為0.03MM-2.0MM的各種材料；；公差可以控制在0.0075mm，工程圖主要是CAD工程圖。

2.原材料的準(zhǔn)備。卓達蝕刻工藝主要涉及不銹鋼(201、202、301、304、316和400)、銅、鋁合金和鈦合金，其中不銹鋼(201、202、301、304、316和400)涉及較多。

3.處理。通過噴油清除材料表面的油污、灰塵、污垢和氧化膜。清洗工藝是保證后續(xù)薄膜或絲網(wǎng)印刷油墨對金屬表面具有良好附著力的關(guān)鍵。

4.壓制(層壓)。根據(jù)需要雙面涂布光敏膠，在涂布光敏層時，產(chǎn)品圖案所需的蝕刻時間可考慮較厚或較薄的膠層，覆蓋性能好，金屬蝕刻產(chǎn)生的圖案清晰度更高。

5.曝光。光掩模紫外曝光轉(zhuǎn)移成像。

6.發(fā)展中。曝光后，圖案固化，被腐蝕的部分曝光，去掉產(chǎn)品不需要的光敏膠層。

7.烘干。去除感光膠，使金屬表面清潔，無粘連、雜質(zhì)等。

8.蝕刻。金屬被蝕刻液腐蝕，過程涉及溶液的濃度、溫度、壓力、速度等參數(shù)。

9.剝離(剝皮操作)。蝕刻后，用酸堿中和的方法使殘留的光敏膠層膨脹，用清水和超聲波清洗多余的光敏膠層。

10.檢查包裝和交付。標(biāo)準(zhǔn)化包裝，將每件產(chǎn)品放入相應(yīng)的包裝盒內(nèi)，并登記相應(yīng)的明細(xì)。