金屬蝕刻設(shè)備的原理及應(yīng)用

　　蝕刻是指曝光制版工藝的發(fā)展，去除蝕刻區(qū)域的保護(hù)，在蝕刻工藝中與化學(xué)溶液接觸以達(dá)到溶解和腐蝕的效果，形成凹凸或中空的成型效果?？捎糜谥谱鞯谝话驺~版、鋅版等印刷凹版。金屬蝕刻設(shè)備可分為化學(xué)蝕刻機(jī)和電解蝕刻機(jī)?；驹硎牵谡婵蘸偷碗妷簵l件下，電感耦合等離子體電源的射頻輸出被送入環(huán)形耦合線圈，一種腐蝕性氣體的混合物加上輝光放電產(chǎn)生高密度等離子體，轟擊基板表面的電極，破壞圖案區(qū)域的半導(dǎo)體材料鍵。所述揮發(fā)性材料由蝕刻氣體產(chǎn)生，蝕刻氣體以氣體的形式從所述襯底分離并從所述真空管中抽出?；瘜W(xué)蝕刻設(shè)備的原理和應(yīng)用是利用化學(xué)溶液通過化學(xué)反應(yīng)來實現(xiàn)蝕刻?；瘜W(xué)蝕刻機(jī)是一種通過化學(xué)反應(yīng)或物理沖擊去除物質(zhì)的技術(shù)。為了達(dá)到腐蝕的目的，利用金屬陽極溶解的原理，以自來水或鹽水為主要腐蝕體(在電解作用下)對液體中的金屬進(jìn)行腐蝕。

　　優(yōu)點: 無污染，但一步蝕刻不污染，其它工藝也必須無污染，適合實驗生產(chǎn)，小面積蝕刻凹字。它主要用于科學(xué)實驗機(jī)器，或只是用于金屬蝕刻痕跡，也稱為電痕跡。缺點: 蝕刻面不均勻，蝕刻面積大，不能用于大規(guī)模生產(chǎn)，盲文蝕刻面積大，不能用于大規(guī)模生產(chǎn)和工藝標(biāo)記。金屬蝕刻設(shè)備主要用于航空、機(jī)械和標(biāo)簽行業(yè)。蝕刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于輕型儀表面板、銘牌和薄型工件的加工，傳統(tǒng)的加工方法難以實現(xiàn)。蝕刻是半導(dǎo)體和電路板制造中不可缺少的技術(shù)。廣泛用于金卡標(biāo)簽加工、手機(jī)按鍵加工、不銹鋼過濾器加工、不銹鋼電梯裝飾板加工、金屬線框加工、金屬眼鏡加工、電路板加工、金屬裝飾板加工等工業(yè)應(yīng)用。